第206节 光刻机合作

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光一很生气，怒道“副社长，这光刻机可不是一般的电子产品。不是随便就能研发出来…。”

真田不满道“光一君，我知道光刻机不是一般的电子产品，可是你要知道我们尼康的困境，几乎是排除米国企业，要不了多久，只要米国扶持asl，我们尼康光刻机，就很难生存了！”

真田指得意思，米国企业组成得v联盟，共同研究下一代光刻机技术，而尼康光刻机在市场占有率第一，却排除这个v联盟，

光一很刻板，依着研发技术能力，从内心上压根上看不起真田，回击道“我作为尼康公司的工程师，我只负责技术研发，保证我们尼康公司研发光刻机，是世界上最先进得…”

光一这么一说，就完全惹怒了真田“既然市尼康公司员工，更应该顾全大局，考量尼康公司的处境！”

…

正当光一，真田，谁也不服谁，争吵起来时，会长木村就立即制止，沉思道“众所周知，大深市芯片产业有限公司，是一家创新公司，一直引领着世界电子产品的技术潮流发展，从芯片，再到划时代的p3和盘…。

所以，我认为，现在大深市芯片产业有限公司创始人李飞，发表浸入式光刻机的论文，我们尼康公司，应该从技术上，与李飞进行交流，为我们尼康公司在光刻技术作出储备，是一个不错的选择…。“

木村的态度，让尼康公司研究浸入式光刻机，除了技术，还有借此敲打光一，给一些压力，

而木村相信李飞公开的浸入式光刻机技术，就如同21实际，没人不相信杰克马有100亿

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就这样，会长木村同意，尼康公司立即与李飞联系，希望在浸入式光刻机进行技术交流…。

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收到尼康公司的邀请，李飞倒是同意，愿意在浸入式光刻机技术合作，并保证，浸入式光刻机绝对是目前最合适的光刻机，

这么一说，尼康公司副社长真田很高兴，要是尼康公司真的时实现了浸入式光刻机，那就是尼康公司的功臣啊，抛弃目前，看不到任何希望的157nf2光刻机…

但是，李飞给出条件，如果要让浸入式光刻机量产，我们必须占有尼康公司股份…，并且，为了防止出现，与东芝公司，日立公司的合约问题，我建议尼康公司，应该与你们的通产省，先商量好…。

说完后，李飞给出时间，必须在一个月内给出回复，否则的话，我会先择与asl合作…。

李飞这么一说，让真田感到很有压力，因为李飞保证浸入式光刻机一定量产…，如果，让这技术让asl掌握了，那岂不是

…

事情紧急，真田立即把李飞所说的话，转告会长木村，木村一脸质疑地问道“真田君，这大深市芯片产业有限公司创始人李飞，真的是保证，一定会让浸入式光刻机量产，”

真田认真地点头“会长，是这样没有错！”

木村决定道“那好，我马上去约见通产省…。”当然，木村在去见河本时，也思考着如何说服…。

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在通产省大臣河本办公室，对于村田的到来，河本立即放下手里工作，在会客区，两人对立坐在沙发上，木村就直接说道“河本大臣，在电话里不方便讲得事情，就是，在光刻机技术，我们尼康公司，想与大深市芯片产业有限公司合作，研发下一代光刻机技术！”

河本条件反射，拒绝道”光刻机我们国家重要的技术，这一技术合作，我们通产省，是不容许的…。“

对于河本反应，木村是有准备的，就微笑道“大臣，大深市芯片产业有限公司提出光刻技术，对我们尼康公司有利，所以，我认为，我们尼康公司应该合作…。“

河本摇摇头，固执道“这一个不行，必须…。”

木村就直接道“大臣，你要知道我们尼康公司的处境，现在我们公司被米国打压，被排除v联盟之外，如果说，这次我们公司再不抓住机会，与大深市芯片产业有限公司合作，那么，一旦，大深市芯片产业有限公司与asl公司合作，到时候，受损的还是尼康公司…”

木村从尼康公司处境如实说出，让河本没有犹豫了…

见此，木村继续说道“大臣，我担心，会出现东芝和日立，存储芯片的事情。到时候，我们尼康公司，损失的不是一个10亿美金的存储芯片的订单，而是光刻机产业…”

这么一说，河本脸色惨白，要不是，当时，出一份文件，说不定，现在就是东芝公司，或者日立公司获得大深市芯片产业有限公司存储芯片订单。根本没有这样的事情…。

…

说到这里，河本就要认真地思考，如果说要是接二连三地出现重大问题，丢失10亿美金订单，以及错失尼康光刻机技术升级时机，那么，河本在通产省的职业生涯，就彻底说再见了，，就说道“如果对你们尼康公司有利，我们通产省是不阻拦的，”

木村就立即从沙发上站起来。朝河本以90度的鞠躬，感谢道“感谢大臣的支持！”

河本点点头，然后想到一件事情“大深市芯片产业有限公司，与你们公司尼康合作，其中，有一个条件，就是与东芝公司，日立公司，达成存储芯片供货协议…。”

木村说道“大臣，我愿意去试一试…。”

…

木村在电话与李飞沟通，表示非常愿意…。李飞就直接道“如果贵贵司，要想使用浸入式光刻机技术，大深市芯片产业有限公司必须占有你们尼康15的股份，”

“15股份？“木村是十分不情愿，李飞就直接说道”木村会长，我保证，在我的技术支持之下，你们尼康公司在一年后，量产浸入式光刻机，在制程上直接实现45n，甚至是28n以下制程“

这个嘛…。木村还在犹豫…，占有15股份…

李飞直接道“这样吧，木村会长，你们公司研发的157nf2光刻机，有很多的问题，先别说在成本上，在目前193n光刻机重新设计，而在技术上，有很多问题，例如镜片分辨率，光学技术材料，

同时，李飞还特别低说出，在157n光刻，由于是高能量的光照射，会对掩膜，晶圆，光学投影系统带来严重的损坏…，

…

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