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杨少峰提出来的多重曝光工艺技术构想提出来后，力晶科技公司这边的技术团队这段时间顿时如同打了鸡血一般立即展开这种技术验证测试，一开始当然是拿了简单的分立器件来做实验，重新设计了光罩和更改工艺流程，没日没夜地赶工，终于制备出了更小的晶体管出来！
通过力晶科技公司的自己内部的测试验证，证明杨少峰提出来的这种多重曝光光刻工艺是完全可行的，而且还可以进一步将制程工艺提升到零点三五微米的水平！
这个重大的进展也是让力晶科技公司的技术研发团队上下无比激动兴奋，张振宇也是立即向电子工业部
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